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芯片Tapeout Review CheckList 数字IC后端零基础入门Innovus学习教程 1P代表一层poly10M代表有10层metalM5x表示M2-M6为一倍最小线宽宽度的金属层2y表示M7-M8为二倍最小线宽宽度的金属层2z表示M9-M10为八倍最小线宽宽度的金属层。还有一层AP用来走RDLRDL这层是最厚的一般用于连接IO的bump信号线基本上都不会用这层来绕线。如果用于绕线其实也绕不了几根还容易有DRC问题。
RDL的英文全称是redistribution layerRDL 是top metal上面的一层 AL通常来说现在是铜工艺在pad区域为了bonding在顶层铜的上面还有一层AL也叫做铝垫铝比较软如果只有铜就无法做bonding既然工艺中有这层 RDL那么有些设计中就可以用它来做走线只需要多一层DRL与top metal的via mask即可。
我们再拿一个社区即将开放的TSMC 12nm项目所用到的Metal Stack。从这张图很清晰看到多出来了M0和VO。在以往的工艺制程中POLY和OD是通过Contact来过渡到Metal1的。现在在这中间又多出来了M0。值得注意的是这个工艺中的M1,M2,M3都是Double Pattern Layer。 下面这种图就很清晰描述出M0和V0在物理实现连接中的作用。
